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Macchina a spruzzo a ultrasuoni per semiconduttori

2025-09-05

Ultime notizie aziendali su Macchina a spruzzo a ultrasuoni per semiconduttori

Macchina di rivestimento a spruzzo a ultrasuoni per semiconduttori

 

L'atomizzazione a spruzzo a ultrasuoni per semiconduttori è una tecnologia di deposizione di film sottili di precisione che utilizza energia ultrasonica ad alta frequenza per atomizzare materiali semiconduttori (come fotoresisti e materiali conduttivi) in goccioline fini e uniformi. Queste goccioline vengono poi spruzzate con precisione sulla superficie del substrato utilizzando un gas vettore, ottenendo rivestimenti di film sottili uniformi e di alta qualità. Questa tecnologia offre vantaggi quali alta efficienza, alta precisione, bassa perdita di materiale e rivestimenti sottili e uniformi. È ampiamente utilizzata nella produzione di semiconduttori, nelle nuove energie e nei rivestimenti in vetro, sostituendo i metodi di spruzzatura tradizionali.

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Principio di funzionamento

1. Atomizzazione a ultrasuoni:

Il cuore del dispositivo è l'ugello a ultrasuoni, che contiene un trasduttore che converte l'energia elettrica in vibrazioni meccaniche ad alta frequenza.

2. Atomizzazione del liquido:

Quando il liquido (soluzione, sol o sospensione) scorre attraverso l'ugello, l'atomizzatore vibrante genera vibrazioni. Quando l'ampiezza della vibrazione supera la tensione superficiale del liquido, il liquido si rompe in goccioline di dimensioni micron.

3. Erogazione del gas vettore:

Le goccioline atomizzate vengono quindi trasportate uniformemente sulla superficie del substrato da una quantità predeterminata di gas vettore (come l'aria).

4. Deposizione di film sottili:

Le goccioline vengono depositate sul substrato, formando un rivestimento continuo di film sottile.

Vantaggi nelle applicazioni dei semiconduttori

Alta precisione e uniformità:

La capacità di depositare rivestimenti di film sottili ultra-sottili e uniformi è fondamentale per applicazioni nella produzione di semiconduttori, come fotoresisti, film conduttivi e film isolanti, che richiedono un'altissima precisione.

Ridotta perdita di materiale:

Rispetto alla spruzzatura tradizionale, la spruzzatura a ultrasuoni non produce praticamente rimbalzi di goccioline o spruzzi eccessivi, aumentando l'utilizzo del materiale di diverse volte, rendendola particolarmente adatta per il rivestimento di materiali costosi.

Spruzzatura delicata:

Il processo di spruzzatura è delicato e non danneggia il substrato, rendendolo adatto a materiali semiconduttori fragili e componenti elettronici.

Ugelli diversificati:

È possibile selezionare ugelli di diverse larghezze, lunghezze, forme e portate per soddisfare specifici requisiti applicativi, consentendo il rivestimento uniforme di aree localizzate o ampie.

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